最先端ArF液侵用光源技術を導入し、ユーザーのさらなるニーズに応える
栃木県小山市; 2019年9月17日 —半導体リソグラフィ光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型リソグラフィ用光源、ArFドライGＴ45Aを8月に出荷したことを発表しました。
最先端半導体製造プロセスでは、テクノロジー・ノード10/7nm（ナノ･メートル）という微細なプロセスが主流となり、今後もEUV光源の導入による7nm以下の更なる微細化が注目されています。その一方で、IoTの普及に伴い主に14-65nmといった技術的に成熟されたノードにおいて需要が高まり、新規投資による生産能力の拡大と、既存工場のアップグレードで対応する事が期待されています。従って、ドライ露光装置の更なる改善が要求され、露光装置における高生産性と高い稼働率（Availability）が不可欠となっています。
GT45Aは、すでに生産現場で導入実績のある、以下のArF液侵用光源技術を適用させることで、ユーザーの幅広い期待に応える機能拡張性を備えます。
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