（レーザー関連）宇都宮大学他／EUV 光源を高効率化するためのマルチレーザー照射法

令和6年7月26日

-― 先端半導体向けリソグラフィー用EUV光源の駆動レーザー負荷低減へ -―

【発表のポイント】

• 先端半導体^注1向けのEUVリソグラフィー^注2の光源の研究です。
• 波長13.5 nmのEUV^注3光源の高効率化に向けたマルチレーザー照射法を実証しました。
• 電気―光変換効率の高い固体レーザーや現在動いている炭酸ガス（CO2）レーザーの高出力
  化で問題になっているレーザー増幅器への負荷を低減し、同時にEUV変換効率^注4も高める
  マルチレーザー照射法を実験的に示しました。
• 最も簡便なSn平板に波長が1 μmのパルスレーザーを1本照射したときの最大EUV変換
  効率（1.7%）を大きく超え、マルチビーム照射では4.7%になることも実証しました。
• EUV光源の高出力化と省エネ化に向けた高効率化への指針を明らかにしました。