――半導体分野におけるガラスの微細加工に革新―― 発表のポイント ガラスなどの加工の難しい材料を、従来の100万倍高速で、なおかつ超精密に加工できる手法を開発しました。 ピコ秒(10のマイナス12乗秒)という極短時間だけ
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――半導体分野におけるガラスの微細加工に革新―― 発表のポイント ガラスなどの加工の難しい材料を、従来の100万倍高速で、なおかつ超精密に加工できる手法を開発しました。 ピコ秒(10のマイナス12乗秒)という極短時間だけ
続きを読む発表のポイント 次世代半導体の回路基板と目されているガラス基板に対し、直径10マイクロメートル以下の微細穴あけ加工を深紫外レーザーで実現しました。 深紫外領域の超短パルスレーザーを用いることで、ガラス基板に対し、配線用に
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