リソグラフィ

（レーザー関連）ギガフォトン株式会社／ギガフォトン、最新ArF液浸光源機種「GT80A」を出荷

最先端ノード量産での高い生産性をサポート栃木県小山市；2024年3月27日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型ArF液浸露光装置用光源

1. はじめにサンフランシスコ@米国で毎年2月初旬に開催されるレーザー装置&光学製品に関する世界最大規模の展示会【Photonics West 2023】、ミュンヘン@独国で2年に一度6月下旬に開催される先端

クリティカルレイヤー向けの最上位機種、半導体デバイスの三次元化にも貢献株式会社ニコン（社長：馬立稔和、東京都港区）は、ArF液浸スキャナー「NSR-S636E」を発売します。ニコン史上最高の生産性を誇り、重ね合わせ精

日本語で読みたい方は、 google chromeで開いて、画面上で右クリックをして「日本語に翻訳」をクリックしてください [Hopkinton, Massachusetts] – EFC Gases & A

株式会社ニコン（社長：馬立稔和、東京都港区）は、ミドルクリティカルレイヤー向けのArF液浸スキャナー「NSR-S625E」を発売します。スループットおよび装置の稼働安定性を向上させたことで、ニコンの半導体露光装置史上最

University of Bayreuth uses new LPKF ProtoLaser R4 Researchers in engineering sciences at the University of Ba

九州大学大学院総合理工学研究院の富田健太郎助教・内野喜一郎教授、ギガフォトン株式会社の開発チーム、西原功修博士（大阪大学名誉教授）およびレーザー技術総合研究所の砂原淳博士（現・米国 Purdue 大学）らは、次世代の半導