従来技術を応用したGIGANEXシリーズ新製品、高出力、高信頼性、低価格モデル
栃木県小山市；2020年4月14日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、半導体製造リソグラフィ用光源の技術を応用したGIGANEXシリーズの新製品、KrFレーザー「G300K」を3月に出荷したと発表しました。
KrFレーザー「G300K」は、当社のリソグラフィ用光源用KrFレーザーの技術をベースに、微細アブレーション等の「加工の最適化」をコンセプトとして、高安定性、99％以上の高稼働率、高出力を維持しながら、低価格を実現したモデルです。これにより半導体製造バックエンド工程における微細アブレーションビア加工工程の、生産性向上と低コスト化をサポートします。
複数のチップで構成された次世代の半導体パッケージでは、外形寸法を小さくするとともに、動作周波数や帯域幅などを高く維持すること、電力効率を高めること、製造コストを低く維持することなどが求められています。近年これらの要求を叶えるパッケージング技術の微細化が着目されており、そのためには層間を接続するビア穴の微細化が必須となります。そしてこの加工を高速かつ安価に行うことができるとして、有機絶縁膜の微細アブレーションビア加工が注目されていますが、その光源として、微細化に有利な短波長および高スループット実現と高出力を両立する、波長248nm のKrFエキシマレーザー「G300K」は最適と言えます。
ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「GIGANEXシリーズの新製品、G300Kはお客様の幅広いニーズを満たし、生産性の向上と低コスト化をサポートします。半導体製造以外の分野で展開するGIGANEXシリーズは、幅広いお客様から新技術ソリューションを期待されています。我々は、GIGANEXシリーズが今後も新しいアプリケーションに適用され次世代の産業界の発展に貢献するべく、邁進いたします。」
製品ページ : https://www.gigaphoton.com/ja/products/other/giganex-series
出典 : https://www.gigaphoton.com/ja/news/6272
この情報へのアクセスはメンバーに限定されています。ログインしてください。メンバー登録は下記リンクをクリックしてください。