2020年12月16日
テクノロジーシフトを加速する新技術を提供
栃木県小山市；2020年12月16日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新技術を採用した最新半導体製造ArF液浸用リソグラフィ光源「GT66A」の量産出荷を開始したと発表しました。
最先端デバイス製造は、現在、ロジックデバイスでは3nmノードのプロセス開発が開始、DRAMでは1Znmノードの量産が開始されています。これらの超微細デバイスでは、ウエハに転写される露光パターンのラフネス低減が課題となっており、回路パターンを忠実に再現し量産でのイールド向上が重要となっています。
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