リソグラフィ

（レーザー関連）東京大学／半導体製造プロセスの現像前超高速検査技術を開発

――既存技術よりも早期の段階で、1万倍高速な検査の実現も視野―― 発表のポイントフォトリソグラフィを用いた半導体製造プロセスの不良検査について、実際にリソグラフィパターンが顕在化する前の段階で検査できる手法を開発しまし

令和6年7月26日 -― 先端半導体向けリソグラフィー用EUV光源の駆動レーザー負荷低減へ -― 【発表のポイント】先端半導体注1向けのEUVリソグラフィー注2の光源の研究です。波長13.5 nmのEUV注3光源の高

最先端ノード量産での高い生産性をサポート栃木県小山市；2024年3月27日、半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、新型ArF液浸露光装置用光源

1. はじめにサンフランシスコ@米国で毎年2月初旬に開催されるレーザー装置&光学製品に関する世界最大規模の展示会【Photonics West 2023】、ミュンヘン@独国で2年に一度6月下旬に開催される先端レ

クリティカルレイヤー向けの最上位機種、半導体デバイスの三次元化にも貢献株式会社ニコン（社長：馬立稔和、東京都港区）は、ArF液浸スキャナー「NSR-S636E」を発売します。ニコン史上最高の生産性を誇り、重ね合わせ精

日本語で読みたい方は、 google chromeで開いて、画面上で右クリックをして「日本語に翻訳」をクリックしてください [Hopkinton, Massachusetts] – EFC Gases & A

会社名レーザーテック株式会社代表者名代表取締役社長執行役員岡林理（コード：6920 東証プライム市場）発表担当執行役員三澤祐太朗（TEL.045-478-7111）【概要】この度レーザーテックは

株式会社ニコン（社長：馬立稔和、東京都港区）は、ミドルクリティカルレイヤー向けのArF液浸スキャナー「NSR-S625E」を発売します。スループットおよび装置の稼働安定性を向上させたことで、ニコンの半導体露光装置史上最

University of Bayreuth uses new LPKF ProtoLaser R4 Researchers in engineering sciences at the University of Ba

九州大学大学院総合理工学研究院の富田健太郎助教・内野喜一郎教授、ギガフォトン株式会社の開発チーム、西原功修博士（大阪大学名誉教授）およびレーザー技術総合研究所の砂原淳博士（現・米国 Purdue 大学）らは、次世代の半導