2020年2月21日
テクノロジーシフトを加速する新技術を搭載
栃木県小山市; 2020年2月21日 —半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社: 栃木県小山市、代表取締役社長: 浦中克己）は、2020年、新技術を採用した最新半導体製造リソグラフィ用光源、ArF液浸用レーザー「GT66A」とKrFレーザー「G60K」の2機種を、新製品としてラインナップすると発表しました。
近年のIoTの普及やAIの実用化による半導体用途拡大に伴い、半導体チップには通信速度のさらなる高速化とより大量のデータ処理が求められています。特に2020年は5G（第5世代移動通信）の一般向けサービスが開始され、サブ10nmノードの小型・高速・低消費電力のロジックICや、爆発的に増加するデータを保存する大容量メモリチップが必要となります。
新型ArF液浸用レーザー「GT66A」は、新開発の光学モジュールを搭載することで空間的なコヒーレンスを低減し、露光面でのビーム均一性を改善することに成功しました。新型KrF用レーザー「G60K」は、約15年ぶりにフルモデルチェンジをし、新型電源ユニットを導入することで、従来比1.5倍の出力を可能にしました。これらの新技術によりギガフォトンはチップメーカーをサポートします。
ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの浦中克己氏は、こう述べています。「IoTを取り込んだ産業機器や家電の普及、さらにはAIや5Gが加わることにより工場、医療、自動車、社会インフラ等の多様な場面で、リアルタイム化とスマート化が同時に進んでいます。我々は、新技術を搭載した新製品ラインナップで、次世代の産業界の発展に貢献していきます。」
出典：https://www.gigaphoton.com/ja/news/6095
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