――既存技術よりも早期の段階で、1万倍高速な検査の実現も視野――
発表のポイント
- フォトリソグラフィを用いた半導体製造プロセスの不良検査について、実際にリソグラフィパターンが顕在化する前の段階で検査できる手法を開発しました。
- 光電子顕微鏡を用いることで、検査段階を早めるだけでなく、既存手法と比較して1万倍高速な検知も可能なポテンシャルを示しました。
- 現像後にしか検査できなかったリソグラフィパターンを、現像前に高速で検査できるようになるため、半導体製造の歩留まり向上やプロセス開発の短縮化につながることが期待されます。
この情報へのアクセスはメンバーに限定されています。ログインしてください。メンバー登録は下記リンクをクリックしてください。