タグ: ウエハとマスク検査

――既存技術よりも早期の段階で、1万倍高速な検査の実現も視野―― 発表のポイント フォトリソグラフィを用いた半導体製造プロセスの不良検査について、実際にリソグラフィパターンが顕在化する前の段階で検査できる手法を開発しまし

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