（レーザー関連）レーザーテック株式会社／高輝度EUVプラズマ光源を開発

会社名 レーザーテック株式会社
代表者名 代表取締役社長執行役員 岡林 理
（コード：6920 東証プライム市場）
発表担当 執行役員 三澤祐太朗
（TEL.045-478-7111）

【概 要】
この度レーザーテックは、高輝度EUVプラズマ光源を新たに開発し、本光源の名称を「URASHIMA
ウラシマ」と定めたのでお知らせします。
今後は当社製品への適用を進めてまいります。

【内 容】
当社では2019年に世界初となるアクティニック^※１EUVパターンマスク欠陥検査装置ACTIS A150をリリースしました。A150は先端半導体デバイス用のマスク製造プロセスやマスク運用において既に不可欠な装置となっており、世界中のマスクショップやウェハファブへの導入が進んでいます。今後はアクティニック EUVパターンマスク欠陥検査装置ACTISシリーズに本光源「URASHIMA」の適用を進め、ACTISのさらなる性能向上に努めてまいります。
「URASHIMA」では、高速回転する液体状のSnにレーザーを照射してEUV光を発生させるLPP（Laser Produced Plasma）方式を採用しています。ACTIS の光学系に最適化した設計によってペリクル^※２への入熱を最小限に抑えることで、ペリクルの劣化を防止しながらペリクル付きマスクの高輝度照明による高感度検査を可能にしました。
Snを使ったEUV光源では、デブリの抑制が重要な課題のひとつです。「URASHIMA」では当社が独自に開発したデブリミチゲーションシステムを用いることで、マスクがデブリで汚染されることのないデブリフリーのEUV光源を実現しました。さらに照明光学系のコンタミネーションも抑制し、従来を上回る生産性を実現しています。

レーザーテックは今後も独自のソリューション開発に力を注ぎ、EUVリソグラフィにおける品質改善、生産性向上に貢献してまいります。

【用 途】
アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTISシリーズへの適用

※１
アクティニック検査（Actinic Inspection）：露光装置と同じ波長の光で検査

※２
ペリクル：マスクへ異物が付着するのを防ぐ保護膜

お問い合わせ先
〒222-8552 横浜市港北区新横浜2-10-1
レーザーテック株式会社 第1ソリューションセールス部 山内勝希
TEL：045-478-7337
E-mail：sales@lasertec.co.jp

出典：
https://www.lasertec.co.jp/news/assets/pdf/012ed6dd98f626bab3a1842e6fee418d.pdf

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