(レーザー関連)東京理科大学/高伝導率の配線をデバイス上に容易に描画できる技術の開発に成功

~従来よりも簡便かつ低コストで作製が可能、貼り付け型センサなどへの応用に期待~

研究の要旨とポイント

  • 室温、大気圧下でプラスチックフィルム上に多層カーボンナノチューブ(MWNT, ※1)を直接作製する手法を開発しました。
  • レーザー照射条件を変化させて作製することにより、抵抗値をシームレスに制御できることを明らかにしました。
  • 本研究をさらに発展させることで、配線材料、センサデバイス、エネルギー変換デバイスなど、さまざまな分野での応用が期待されます。

東京理科大学先進工学部電子システム工学科の生野孝准教授、小松裕明氏(2022年度修士課程2年生)、杉田洋介氏(2022年度修士課程1年生)、松浪隆寛氏(2022年度学部4年生)の研究グループは、室温、大気圧下でプラスチックフィルム上に多層カーボンナノチューブ(MWNT)配線を作製する、従来よりも簡便な方法の開発に成功しました。また、作製時のレーザー照射条件を変化させることで、抵抗値や線幅が異なるMWNT配線を選択的に作製できることを明らかにしました。今後の研究のさらなる発展によって、新たなナノカーボン材料を迅速に提供することができ、軽量で柔軟なセンサ、エネルギーの変換・貯蔵デバイスなど、さまざまな次世代デバイスの実現につながることが期待されます。

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