クリティカルレイヤー向けの最上位機種、半導体デバイスの三次元化にも貢献 株式会社ニコン（社長：馬立 稔和、東京都港区）は、ArF液浸スキャナー「NSR-S636E」を発売します。ニコン史上最高の生産性を誇り、重ね合わせ精
続きを読む
タグ: リソグラフィ
（レーザー関連）米・EFC社／EFC Launches Cymer-Qualified Neon Gas Recycling System, a Game Changer for Excimer Lasers
日本語で読みたい方は、 google chromeで開いて、 画面上で右クリックをして 「日本語に翻訳」をクリックしてください [Hopkinton, Massachusetts] – EFC Gases & A
続きを読む
（レーザー関連）レーザーテック株式会社／高輝度EUVプラズマ光源を開発
会社名 レーザーテック株式会社 代表者名 代表取締役社長執行役員 岡林 理 （コード：6920 東証プライム市場） 発表担当 執行役員 三澤祐太朗 （TEL.045-478-7111） 【概 要】 この度レーザーテックは
続きを読む
（レーザー関連）株式会社ニコン／ニコンの半導体露光装置史上最高の生産性を実現 ArF液浸スキャナー「NSR-S625E」を発売
株式会社ニコン（社長：馬立 稔和、東京都港区）は、ミドルクリティカルレイヤー向けのArF液浸スキャナー「NSR-S625E」を発売します。スループットおよび装置の稼働安定性を向上させたことで、ニコンの半導体露光装置史上最
続きを読む
（レーザー関連）Materials Research With Ultrashort-Pulse Laser Source
University of Bayreuth uses new LPKF ProtoLaser R4 Researchers in engineering sciences at the University of Ba
続きを読む
次世代半導体リソグラフィ光源の空間構造が明らかに
九州大学大学院総合理工学研究院の富田健太郎助教・内野喜一郎教授、ギガフォトン株式会社の開発チーム、西原功修博士（大阪大学名誉教授）およびレーザー技術総合研究所の砂原淳博士（現・米国 Purdue 大学）らは、次世代の半導
続きを読む